- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/22 - Masques ou masques vierges d'imagerie par rayonnement d'une longueur d'onde de 100 nm ou moins, p.ex. masques pour rayons X, masques en extrême ultra violet [EUV]; Leur préparation
Détention brevets de la classe G03F 1/22
Brevets de cette classe: 577
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
149 |
| Applied Materials, Inc. | 16587 |
62 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
41 |
| Hoya Corporation | 2822 |
33 |
| ASML Netherlands B.V. | 6816 |
27 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5132 |
19 |
| Agc, Inc. | 4029 |
17 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 2646 |
16 |
| KLA-Tencor Corporation | 2574 |
10 |
| Fine Semitech Corp. | 22 |
9 |
| Intel Corporation | 45621 |
8 |
| ASML Holding N.V. | 542 |
8 |
| KLA Corporation | 1223 |
8 |
| International Business Machines Corporation | 60644 |
7 |
| FUJIFILM Corporation | 27102 |
7 |
| GLOBALFOUNDRIES U.S. Inc. | 6459 |
7 |
| SK Hynix Inc. | 11030 |
6 |
| Lam Research Corporation | 4775 |
6 |
| Kioxia Corporation | 9847 |
6 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 30585 |
5 |
| Autres propriétaires | 126 |